[发明专利]低松比片状银粉的制备方法无效
申请号: | 200510011011.0 | 申请日: | 2005-09-12 |
公开(公告)号: | CN1736636A | 公开(公告)日: | 2006-02-22 |
发明(设计)人: | 朱晓云;郭忠诚 | 申请(专利权)人: | 昆明理工恒达科技有限公司 |
主分类号: | B22F9/04 | 分类号: | B22F9/04 |
代理公司: | 昆明慧翔专利事务所 | 代理人: | 程韵波 |
地址: | 650031云南*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明涉及一种低松比片状银粉的制备方法,生产工序由选料、球磨、一次表面改性、干燥和二次表面改性五部分组成。以银含量大于99.95%、粒度为0.1~1um的银粉为原料,在球磨界质、球磨助剂、液体润滑剂存在条件下进行湿法球磨,再经一次化学改性处理,一次干法球磨改性处理,得到低松比片状银粉。湿法球磨时间2~8小时,仅为机械球磨法时间的1/5,片状银粉松装密度仅为其1/2,解决了在导电漆中易沉淀、结块问题;采用两次表面改性处理,涂覆二层保护膜,第一层为分散膜,第二层为定向漂浮膜,提高银粉的分散性和漂浮性,该银粉为生产电磁屏蔽漆和导电漆所需原料。其各项指标都能满足导电漆、屏蔽漆要求。 | ||
搜索关键词: | 片状 银粉 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种低松比片状银粉的制备方法,其特征在于:发明按以下步骤完成,1)、选料:原料为银含量大于99.95%,粒度为0.1~1微米的银粉;2)、球磨:按球料重量比为10~50∶1的比例向球磨机内加入介质球和原料银粉,介质球采用单一球径,球直径为φ4~20毫米,按每公斤原料加入5~30克球磨助剂、4~40毫升液体润滑剂、0.5~2升无水乙醇湿磨研磨介质,球磨时转速为200~1000转/分,球磨2~8小时,球磨后采用过滤方法将银粉、介质球和研磨介质分离,得球磨后银粉;3)、一次表面改性:将一种或几种改性剂按1∶1的重量比称取,用去离子水溶解,配制成浓度为10~30g/L的一次表面改性剂,球磨后的银粉按每公斤加入到0.5~3升一次表面改性剂中,搅拌停留时间不少于30分钟;4)、经改性后的银粉过滤、烘干,烘干温度60℃,得一次表面改性银粉;5)、二次表面改性:采用干法球磨,加入玻璃球为球磨介质,球料比为1~10∶1,球径是φ2~6毫米,按每公斤一次表面改性银粉加入2~15克二次表面改性剂,球磨时转速为20~50转/分,时间2~10小时,得到低松比片状银粉。
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