[发明专利]一种漏磁检测腐蚀缺陷的量化方法有效

专利信息
申请号: 200510011116.6 申请日: 2005-01-07
公开(公告)号: CN1641347A 公开(公告)日: 2005-07-20
发明(设计)人: 黄松岭;赵伟;崔伟;吴静;王珅 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G01N27/82 分类号: G01N27/82;G01M3/00;G01B7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
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摘要: 一种漏磁检测腐蚀缺陷的量化方法,属于无损检测技术领域。本发明利用检测到的漏磁场分布特征,根据特定的算法实现腐蚀缺陷尺寸的量化。具体实施方法是首先制作带有三个系列标准缺陷的试样,根据试样漏磁检测数据,确定腐蚀缺陷长度、宽度和深度量化公式中的系数,从而得到这种试样类型被测件的腐蚀缺陷量化方法,为评价设备使用状态和设备维护提供依据。本发明有效克服了现有技术中对腐蚀缺陷,特别是对缺陷深度难于量化的缺点,方法简单易行,手工和计算机均可实现,效率高,具有较广阔的应用前景。
搜索关键词: 一种 检测 腐蚀 缺陷 量化 方法
【主权项】:
1.一种漏磁检测腐蚀缺陷的量化方法,其特征在于该方法包括如下步骤:1)取与待检测部件相同材质、相同厚度的试样,试样厚度用符号t表示;在其上加工长度分别为1t、2t、3t、4t、5t、6t、7t、8t、9t和10t,宽度为3t,深度为20%t;长度为3t,宽度分别为1t、2t、3t、4t、5t、6t、7t、8t、9t和10t、深度为20%t;长度和宽度均为3t,深度分别为10%t、20%t、30%t、40%t、50%t、60%t、70%t、80%t和90%t的三个系列人工腐蚀标准缺陷,缺陷边界圆弧过渡,缺陷之间间隔至少为20t;2)将试样水平放置,用直流磁化场饱和磁化,然后在提离值为0.5~5mm的检测平面内等间距采样,得到检测平面内标准缺陷水平方向的离散二维漏磁场数据;所述的提离值是指检测探头距被检测试样表面的距离;3)将步骤2)得到的离散二维漏磁场数据取平均值,再用该平均值的1.2倍作为阈值过滤步骤2)得到的离散二维漏磁场数据,得到各标准缺陷的离散二维漏磁场数据范围;4)分别计算步骤3)得到的标准缺陷离散二维漏磁场的长度、宽度和峰值;标准缺陷离散漏磁场长度Lm等于标准缺陷离散二维漏磁场长度方向的采样点数乘以采样间距d;缺陷漏磁场宽度Wm等于缺陷离散二维漏磁场宽度方向的采样点数乘以采样间距d;缺陷漏磁场峰值Mx为缺陷离散二维漏磁场最大值;5)将步骤4)得到的缺陷宽度为3t、深度为20%t、长度分别为1t、2t、3t、4t、5t、6t、7t、8t、9t和10t的标准缺陷漏磁场长度Lm与其相应的缺陷长度L按线性公式拟合,确定缺陷长度计算公式L=a×Lm+b中的系数a和b,得到缺陷长度量化公式;将步骤4)得到的缺陷长度为3t、深度为20%t、宽度分别为1t、2t、3t、4t、5t、6t、7t、8t、9t和10t的标准缺陷漏磁场宽度Wm与其相应的缺陷宽度W按线性公式拟合,确定缺陷宽度量化公式W=e×Wm+f中的系数e和f,得到缺陷宽度量化公式;将步骤4)得到的缺陷长度和宽度都为3t、深度分别为10%t、20%t、30%t、40%t、50%t、60%t、70%t、80%t和90%t的标准缺陷漏磁场峰值Mx与其相应的缺陷深度D按二次公式拟合,确定缺陷深度量化公式Mx=g×D2+h×D+j中的系数g、h和j,得到缺陷深度量化公式;6)将被检测部件用直流磁化场饱和磁化,以步骤2)中的提离值和采样间距获得被测部件的离散漏磁场数据,按步骤3)得到被测件各缺陷的离散二维漏磁场数据,按步骤4)得到被测件各缺陷漏磁场的长度、宽度和峰值,按步骤5)的缺陷长度量化公式、缺陷宽度量化公式和缺陷深度量化公式,即计算得到被检测部件未知腐蚀缺陷的尺寸。
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