[发明专利]含偶氮和噻吩环的二阶非线性光学聚合物及其合成方法和用途

摘要

本发明涉及非线性光学材料领域，特别涉及一类具有下式结构的含偶氮和噻吩环的二阶非线性光学聚合物及其合成方法，以及用含偶氮和噻吩环的二阶非线性光学聚合物制备交联型聚氨酯类聚合物或极化聚合物薄膜。本发明的含偶氮和噻吩环的新型高性能二阶非线性光学聚合物，由于用N＝N键代替了C＝C键，光化学稳定性大大提高。这类材料含有两个或两个以上－OH，可以经过进一步反应制备交联的聚合物薄膜或极化聚合物薄膜，它们与非交联聚合物相比具有更高的热稳定性、光稳定性以及取向稳定性。此外，由于此类偶氮化合物或其偶氮中间体为蓝色到红色的化合物，它们也可用作颜料、染料和涂料等。

主权项

1.一种含偶氮和噻吩环的二阶非线性光学聚合物，其特征是：该聚合物具有以下结构：其中，R₁、R₂是含有羟基的10个碳原子以下的烷基、烷氧基或酯基的取代基；R₃、R₄是H、20个碳原子以下的烷基、芳基、烷氧基、酯基、酰氨基或含有羟基的10个碳原子以下的烷基、芳基、烷氧基或酯基的取代基；R₅、R₆是H、10个碳原子以下的烷基、烷氧基、酯基或酰氨基；A代表下面结构的电子受体部分：或其中，A式中R₃＝H或-(CH₂)_nR’，n＝1～10，R’＝H或OH；R₄＝H或-(CH₂)_nR’，n＝1～10，R’＝H或OH；当R₃为苯环上的取代基时，其取代的位置是任意的。