[发明专利]半导体激光器直接倍频产生短波长激光器装置无效

专利信息
申请号: 200510012683.3 申请日: 2005-07-19
公开(公告)号: CN1719672A 公开(公告)日: 2006-01-11
发明(设计)人: 王云才;杨玲珍;王安帮 申请(专利权)人: 太原理工大学
主分类号: H01S3/00 分类号: H01S3/00;H01S5/00
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司 代理人: 庞建英
地址: 030024山*** 国省代码: 山西;14
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导体激光器直接倍频产生短波长激光器装置,属于激光技术和信息领域。其特征在于:作为基频光源的半导体激光器输出端面镀基频光增透膜;采用外部光反馈器件对半导体激光器提供光反馈,在光反馈器件和半导体激光器之间获得窄线宽、高功率密度、稳定往返振荡的基频光;倍频晶体处于光反馈器件和半导体激光器之间,实现对半导体激光器直接倍频产生短波长激光输出。本发明无需腔内倍频时必须的激光介质晶体,具有效率高、输出稳定、结构简单、体积小、成本低廉等优点。
搜索关键词: 半导体激光器 直接 倍频 产生 波长 激光器 装置
【主权项】:
1、本发明半导体激光器直接倍频产生短波长激光器装置,其特征在于:由作为基频光光源的半导体激光器(1)、倍频晶体(2)、光反馈器件(3)和输出准直系统(4)组成,半导体激光器(1)采用普通商业半导体激光器,在半导体激光器(1)的输出光路上设置对半导体激光器(1)提供适当的光反馈,以获得窄线宽的基频光输出的光反馈器件(3),在半导体激光器(1)的输出端面镀可以使基频光在光反馈器件(3)和半导体激光器(1)之间形成高功率密度且稳定往返振荡的基频光增透膜(5),在靠近半导体激光器(1)的倍频晶体(2)端面同时镀基频光增透膜(6)和倍频光全反膜(7),光反馈器件(3)由直接镀在倍频晶体(2)另一端面上的基频光反射膜(8)构成,或由镀基频光高反膜的平面反射镜(10)构成,倍频晶体(2)位于半导体激光器(1)和光反馈器件(3)之间,准直系统(4)由透镜组成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于太原理工大学,未经太原理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510012683.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top