[发明专利]一种低成本简易制作光刻掩膜的方法

摘要

本发明公开了一种低成本简易光刻掩膜的制作方法，其具体制作步骤为，用菲林输出带有设计图样的高分辨率胶片粘贴到石英玻璃上作为初始光刻掩膜，再将用胶片制得的光刻掩膜的图样面紧贴涂有光刻胶的镀铬玻璃，然后利用光刻技术对涂有2～40um厚光刻胶的铬玻璃曝光、显影、吹干后，在90℃～130℃温度软烘3～10分钟(优选温度为110℃～120℃)，使的光刻胶图形平滑，再用传统的湿法刻蚀技术刻蚀掉没有光刻胶保护的金属铬薄膜，除去残留光刻胶得到标准的光刻掩膜。该方法不仅制作工艺简单、成本低廉，而且特别适合于最小线宽在20um的生化分析芯片光刻掩膜及其他最小线宽在20um以上光刻掩膜的制备。

主权项

1、一种低成本简易制作光刻掩膜的方法，其特征在于：将菲林输出的带有设计图样的高分辨率胶片粘贴到石英玻璃上作为初始光刻掩膜，再将用胶片制得的光刻掩膜的图样面紧贴涂有光刻胶的镀铬玻璃，然后利用光刻技术对涂有光刻胶的铬玻璃曝光、显影、吹干后，经过软烘使光刻胶图形平滑，消除原本菲林胶片细小图样边缘的粗糙，再用湿法刻蚀除掉铬玻璃上没有光刻胶保护的金属铬薄膜层，最后除去残留光刻胶即得到标准光刻掩膜。