[发明专利]冷轧超薄叠层合金化制备NiTiHf形状记忆合金薄膜无效
| 申请号： | 200510020159.0 | 申请日： | 2005-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN1667143A | 公开（公告）日： | 2005-09-14 |
| 发明（设计）人： | 文玉华;李宁;莫华强;谢文玲 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | C22C19/03 | 分类号： | C22C19/03;C22C14/00;C22C28/00;C22C30/00;C22F1/00;B21B1/40;B21B3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610065四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种冷轧超薄叠层合金化制备NiTiHf形状记忆合金薄膜的方法。采用塑性好，变形容易的Ni箔、Ti箔、Hf箔或TiHf合金箔为原材料，按原子组成式Nix (Ti1－yHfy) 1－x确定箔的厚度，将金属箔交互重叠放置，大变形冷轧后获得超薄叠层的三明治结构，根据需要，可以将冷轧后的超薄叠层对折后再冷轧，如此反复，最后进行扩散退火合金化，获得成分均匀的合金薄膜。组成比分别满足：0.40≤x≤0.55，0≤y≤0.8。用该方法制备的NiTiHf形状记忆合金薄膜具有成分容易控制，晶粒细小，疲劳寿命高，面积大和成本低的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 冷轧 超薄 合金 制备 nitihf 形状 记忆 薄膜 | ||
【主权项】：
1、一种冷轧超薄叠层合金化制备的NiTiHf形状记忆合金薄膜，其特征在于原子组成式为Nix(Ti1-yHfy)1-x，组成比分别满足：0.45≤x≤0.55，0≤y≤0.8。
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