[发明专利]冷轧超薄叠层合金化制备NiAl形状记忆合金薄膜无效
申请号: | 200510020160.3 | 申请日: | 2005-01-13 |
公开(公告)号: | CN1667144A | 公开(公告)日: | 2005-09-14 |
发明(设计)人: | 文玉华;李宁;熊隆荣;胥永刚 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | C22C19/03 | 分类号: | C22C19/03;C22C21/00;C22C1/00;B21B1/40;B21B3/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610065四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种冷轧超薄叠层合金化制备NiAl形状记忆合金薄膜的方法。采用塑性好,变形容易的Al箔、Ni箔为原材料,按原子组成式Ni1-xAlx确定箔的厚度,将金属箔交互重叠放置,大变形冷轧后获得超薄叠层的三明治结构,根据需要,可以将冷轧后的超薄叠层对折后再冷轧,如此反复,最后进行扩散退火合金化,获得成分均匀的NiAl形状记忆合金薄膜。组成比满足:0.30≤x≤0.40。用该方法制备的NiAl形状记忆合金薄膜具有成分容易控制,晶粒细小,疲劳寿命高,面积大和成本低的优点。 | ||
搜索关键词: | 冷轧 超薄 合金 制备 nial 形状 记忆 薄膜 | ||
【主权项】:
1、一种冷轧超薄叠层合金化制备的NiAl形状记忆合金薄膜,其特征在于原子组成式为Ni1-xAlx,组成比满足:0.30≤x≤0.40。
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