[发明专利]一种在磁制冷材料表面制作薄膜的方法及装置无效
申请号: | 200510020440.4 | 申请日: | 2005-03-03 |
公开(公告)号: | CN1670241A | 公开(公告)日: | 2005-09-21 |
发明(设计)人: | 吴卫 | 申请(专利权)人: | 西华大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/14;C23C14/16 |
代理公司: | 成都虹桥专利事务所 | 代理人: | 马昌军 |
地址: | 610039四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供了一种在磁制冷材料表面制作薄膜的方法及装置。采用不同的靶材,可以在磁制冷材料上紧密形成0.1~6μm厚的薄膜,使磁制冷材料在磁制冷机中使用时不受热交换液体的腐蚀,同时不影响热交换。靶材可以是合金如不锈钢,也可以是纯金属如钛、铝、铜、镍或锆。被处理的磁制冷材料可以是颗粒状、片状或丝状。本发明使用的处理装置为低温磁控溅射机,溅射枪和靶材安装在真空室的上部,磁制冷材料置于下部。本发明在真空室内,设计了一种振动机构或搅拌机构,使粒状磁制冷材料在被处理时能充分翻转,达到在磁制冷材料表面形成均匀厚度的薄膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 制冷 材料 表面 制作 薄膜 方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种在磁制冷材料表面制作薄膜的方法,在磁制冷材料上制作一层防腐蚀的金属或合金薄膜,其特征在于在磁控溅射装置内放置耐腐蚀的溅射金属材料作为靶材,利用低温磁控溅射方法在磁制冷材料的表面镀膜,磁控溅射装置的溅射靶在真空室的上部,具有负直流高压200~2000伏,溅射方向从上向下,磁制冷材料在下部,接地,接受溅射出的靶材原子,使磁制冷材料的表面上沉积一层金属或合金薄膜,溅射薄膜可以是一层,也可以是多层。
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