[发明专利]ITO镀膜板及其制备方法无效
| 申请号： | 200510021275.4 | 申请日： | 2005-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN1709689A | 公开（公告）日： | 2005-12-21 |
| 发明（设计）人： | 许生;柴卫平;许沭华;戚祖强;范垂祯;高文波;梁锐生 | 申请（专利权）人： | 深圳市豪威光电子设备有限公司 |
| 主分类号： | B32B17/00 | 分类号： | B32B17/00;C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳创友专利商标代理有限公司 | 代理人： | 彭家恩 |
| 地址： | 518054广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种ITO镀膜板，包括基板和沉积在基板表面的第一层ITO膜，还包括合金膜和第二层ITO膜，所述合金膜沉积在第一层ITO膜上，所述第二层ITO膜沉积在合金膜上。本发明还公开制备上述ITO镀膜板的方法。本发明的有益效果在于：采用ITO/合金/ITO的多层结构，利用合金优良的导电性，可以获得很低的方阻；并且由于将ITO膜分为两层进行沉积，避免厚度增大出现的晶粒生长或形成柱形结构，保证了薄膜表面的低粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | ito 镀膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种ITO镀膜板，包括基板和沉积在基板表面的第一层ITO膜，其特征在于：还包括合金膜和第二层ITO膜，所述合金膜沉积在第一层ITO膜上，所述第二层ITO膜沉积在合金膜上。
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