[发明专利]一种有机电致发光器件隔离柱的制备方法

摘要

本发明公开了一种有机电致发光器件阴极隔离柱的制备方法，它是通过一次涂覆有机绝缘薄膜、一次曝光、一次显影完成的。此方法使用两条相邻凸起柱来代替原有的倒梯形隔离柱，实现有机发光器件相邻象素电极的有效隔离。本发明提供的有机电致发光器件中阴极隔离柱的制备方法，具有简化工艺流程、节约显影腐蚀材料、提高了生产效率、减少对环境的污染、防止器件交叉效应等优点。

主权项

1、一种有机电致发光器件阴极隔离柱的制备方法，其特征是它包括下面的步骤：步骤1，准备好光刻所需的第一电极图案掩膜和隔离柱图案掩膜；步骤2，预处理：用商用去污粉、分析醇级丙酮、分析醇级乙醇、去离子水清洗玻璃基板，去掉玻璃表面的杂质和有机物，清洗后用风刀吹净或烘箱烘干；步骤3，制备第一电极：在步骤2处理好的玻璃基板上蒸镀出透明阳极，按照第一电极的设计图案进行光刻，制备出第一电极；步骤4，涂胶：在步骤3中已经做好第一电极的玻璃基板上涂覆一层聚合物薄膜；涂覆方法为旋涂或辊涂或先辊涂再旋涂，聚合物薄膜为光敏型聚酰亚胺或者负性光刻胶，薄膜的厚度为1～10um；步骤5，前烘：将步骤4中已涂覆聚合物薄膜的基板放入烘箱或者放置热板上进行第一次烘烤，温度为70℃～150℃，烘烤时间为10min～60min；步骤6，曝光：将步骤5中完成前烘的玻璃基板与光掩膜对位，然后对基板曝光，曝光强度为1mw/cm2～10mw/cm2，曝光时间为5s～60s，曝光完成后，得到隔离柱图案；步骤7，后烘：对步骤6中完成曝光的基板放入烘箱或者放置热板上进行第二次烘烤，温度为70℃～150℃，烘烤时间为10min～60min；步骤8，显影：将步骤7后烘的基片放入与步骤4所用聚合物对应的显影液进行显影：如果聚合物为光敏型聚酰亚胺，选商用二甲基甲酰胺，如果聚合物为负性光刻胶，选商用RFX-2277显影液，时间为10s～5min，显影出隔离柱图案，两条隔离柱的线条高度与间距的比值为0.5～5；显影完成后，用去离子水冲洗带有隔离柱图案的玻璃基板2～5次，洗净残余的显影液；步骤9，坚膜：将步骤8显影完成的玻璃基板放入烘箱或者放置热板上进行第三次烘烤，温度为100℃～250℃，烘烤时间为10min～60min，即可完成隔离柱制作。