[发明专利]玻璃基片表面制备巯基硅烷-稀土纳米复合薄膜的方法无效
申请号: | 200510023463.0 | 申请日: | 2005-01-20 |
公开(公告)号: | CN1654393A | 公开(公告)日: | 2005-08-17 |
发明(设计)人: | 程先华;白涛;吴炬;上官倩芡 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;C03C17/42 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 | 代理人: | 毛翠莹 |
地址: | 200240*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种玻璃基片表面制备巯基硅烷—稀土纳米复合薄膜的方法,采用表面经过羟基化的玻璃基片作为基底材料,在其表面采用自组装方法制备巯基硅烷—稀土纳米薄膜,首先将玻璃基片浸于Pirahan溶液中,于室温下处理1小时,清洗、干燥后,浸入巯基硅烷溶液中,静置6~8小时后取出,冲洗后用氮气吹干置于由稀土化合物、乙醇、乙二胺四乙酸、氯化铵、尿素及硝酸组成的稀土自组装溶液中进行组装,即获得巯基硅烷—稀土自组装纳米薄膜。本发明工艺方法简单,在玻璃基片表面制备的稀土自组装薄膜有明显减摩、耐磨作用。 | ||
搜索关键词: | 玻璃 表面 制备 巯基 硅烷 稀土 纳米 复合 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
1、一种玻璃基片表面制备巯基硅烷-稀土纳米复合薄膜的方法,其特征在于,将玻璃基片浸于体积比为H2SO4∶H2O2=70∶30的溶液中,于室温下处理1小时,用去离子水超声清洗后放在一个防尘装置内在烘箱中干燥,然后将处理后的玻璃基片浸入配制好的巯基硅烷溶液中,静置6~8小时取出,冲洗后用氮气吹干,再将此基片置入配制好的稀土自组装溶液中,在80~100℃下进行组装10~12小时,即获得巯基硅烷-稀土自组装纳米薄膜;其中,所述巯基硅烷溶液的组分摩尔浓度为:巯基硅烷0.1~1.5mmol/L,溶剂为苯溶液;稀土自组装溶液的组分重量百分比为:乙醇含量:60%~80%,稀土化合物:4.5%~7%,乙二胺四乙酸:1%~4%,氯化铵:2%~5%,尿素:12%~25%,硝酸:0.5%~1.5%。
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