[发明专利]一种提高真空等离子喷涂碳化硼涂层结合强度的方法无效
| 申请号： | 200510023896.6 | 申请日： | 2005-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN1651603A | 公开（公告）日： | 2005-08-10 |
| 发明（设计）人： | 郑学斌;季珩;黄静琪;丁传贤 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号： | C23C24/00 | 分类号： | C23C24/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 潘振甦 |
| 地址： | 20005*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种提高真空等离子喷涂碳化硼涂层结合强度的方法。其特征在于B4C涂层与不锈钢或低合金钢基材间采用Ti涂层作中间层；B4C涂层的厚度为200－500μm；中间层厚度为30－100μm；所使用Ti粉末粒径为10－80μm，B4C粉末粒径为10－70μm。利用本发明提供的方法，通过工艺参数的控制使制备的涂层的结合强度比未用Ti中间层涂层提高40－60％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 真空 等离子 喷涂 碳化 涂层 结合 强度 方法 | ||
【主权项】：
1、一种提高真空等离子喷涂B4C涂层结合强度的方法，其特征在于在B4C涂层与不锈钢或低合金钢基材间采用Ti涂层作为中间层。
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