[发明专利]一种可见光激发的纳米超长余辉发光材料的制备无效
| 申请号： | 200510024630.3 | 申请日： | 2005-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN1837328A | 公开（公告）日： | 2006-09-27 |
| 发明（设计）人： | 彭子飞;周亚丽 | 申请（专利权）人： | 上海师范大学 |
| 主分类号： | C09K11/80 | 分类号： | C09K11/80 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 徐迅 |
| 地址： | 20023*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种纳米长余辉稀土发光材料，具有式(I)所示的结构：aSrObAl2O3：nEu2+，mDy3+ (I)，式中，a、b、n、m为各物质的相对摩尔数，且a＝3.5－4.5，b＝6.5－7.5，n＝0.05－1.5，m＝0.05－3.0。本发明的发光材料的特点是只需可见光瞬时激发，发光强度达到了5200mcd/m2，余辉时间长达45个小时以上。本发明还公开了所述超长余辉发光材料的制法和用途。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可见光 激发 纳米 超长 余辉 发光 材料 制备 | ||
【主权项】：
1.一种可见光激发的长余辉发光材料，其特征在于，它具有式(I)所示的结构： aSrObAl2O3：nEu2+，mDy3+ (I)式中，a、b、n、m为各物质的相对摩尔数，且a＝3.5-4.5，b＝6.5-7.5，n＝0.05-1.5，m＝0.05-3.0。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海师范大学，未经上海师范大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510024630.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
