[发明专利]一种曝光装置无效
| 申请号： | 200510024642.6 | 申请日： | 2005-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN1658075A | 公开（公告）日： | 2005-08-24 |
| 发明（设计）人： | 袁志扬;张国韦 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201203上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种曝光装置，用于将需要曝光的图形按照一定的比例投影到曝光台上的被感光元件上，得到大面积具有一定陡度的纳米线宽和精度的图形。它由整机框架、减振系统、精密运动系统、精密实时测量系统、对准系统、精密曝光系统和驱动电机组成，该整机框架由一套主动减振器分隔为内部框架和外部框架，驱动电机被固定在外部框架上。藉由上述结构主要解决现有装置减振效果不佳的技术问题，可以将该装置的曝光精度提高到纳米曝光的水平。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1、一种曝光装置，由整机框架、减振系统、精密运动系统、精密实时测量系统、对准系统、精密曝光系统和驱动电机组成，其特征在于：该整机框架由一套主动减振器(219)分隔为内部框架(212，213，214，216，218)和外部框架(211)，驱动电机(222)，(223)，(235)，(238)被固定在外部框架(211)上。
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