[发明专利]适用于印章的光敏垫及其制备方法无效
| 申请号： | 200510024886.4 | 申请日： | 2005-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN1672953A | 公开（公告）日： | 2005-09-28 |
| 发明（设计）人： | 陆冲;王庆海;唐颂超 | 申请（专利权）人： | 张志华;王卫荣 |
| 主分类号： | B41K1/36 | 分类号： | B41K1/36;B41K1/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 罗大忱 |
| 地址： | 200002上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种适用于印章的光敏垫及其制备方法。本发明光敏垫材料为一种微孔泡沫材料，组分包括：聚烯烃或其共聚物树脂、有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂和其他助剂。本发明的用于印章的光敏垫，孔径尺寸小、均匀性好，产品质量稳定。能够满足有关方面的需要。 | ||
| 搜索关键词： | 适用于 印章 光敏 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种适用于印章的光敏垫，其特征在于，为一种微孔泡沫材料，组分和重量百分比包括：聚烯烃或其共聚物树脂 70～90％有机颜料光敏助剂 0.1～5％酚类抗氧剂 0.5～3％非离子表面活性剂 0.5～3％其他助剂 5～25％。
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