[发明专利]利用有机涂层制造半导体图象传感器的方法有效

专利信息
申请号: 200510025215.X 申请日: 2005-04-20
公开(公告)号: CN1855516A 公开(公告)日: 2006-11-01
发明(设计)人: 朱骏 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司;上海华虹(集团)有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 王洁
地址: 201203上海市张*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明为一种利用有机涂层制造半导体图象传感器的优化工艺。本发明中利用顶部和底部有机涂层的抗反射特性,降低基底的反射光强度,减少由于杂光而导致含有滤光材料的负性光敏光刻胶交联产生的基底底膜残留问题;同时依靠顶部有机涂层所包含的表面显影活性剂,优化显影工艺,降低由于显影不良而产生的顶部薄膜残留问题,恰当的使用顶部和底部有机涂层,有效的改善和优化半导体图象传感器的滤光层的制造工艺,大大提高器件性能。
搜索关键词: 利用 有机 涂层 制造 半导体 图象 传感器 方法
【主权项】:
1、一种利用有机涂层制造半导体图象传感器的方法,其特征在于:在半导体图象传感器滤光层顶部和底部涂布抗反射显影加强层,调整反射率。
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