[发明专利]光刻机成像质量的检测方法有效

专利信息
申请号: 200510025281.7 申请日: 2005-04-21
公开(公告)号: CN1673871A 公开(公告)日: 2005-09-28
发明(设计)人: 施伟杰;王向朝;张冬青 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种光刻机成像质量的检测方法,其特征在于该方法包括准备工作、标记测量和数据处理等步骤,本发明该方法在完成光刻机的焦面偏移、场曲、像散等轴向像质参数的原位检测的同时,实现了对畸变、放大率、平移、旋转等垂轴像质参数的精确测量,避免了垂轴像质参数的测量精度对轴向像质校正程度的依赖关系,可获得光刻机像全面的质参数。
搜索关键词: 光刻 成像 质量 检测 方法
【主权项】:
1、一种光刻机成像质量的检测方法,其特征在于该方法包括下列步骤:第一步:准备工作:①初始化光刻机;②在晶圆(7)上涂光刻胶并上至工作台(8);③制备具有多个镜像FOCAL标记的掩模版(3),每个镜像FOCAL标记包括四个象限,每个象限的图形由一定周期的粗线条和细线条组成,第一象限和第二象限的线条方向相同,且旋转对称;第三象限与第四象限线条方向相同且镜像对称,但与第一象限、第二象限的线条方向相垂直,在该镜像FOCAL标记中,第一象限和第四象限构成右FOCAL图形,第二象限与第三象限线条构成左FOCAL图形;第二步:标记测量:①将所述的具有镜像FOCAL标记的掩模版(3)上至掩模台(4)上;②选定若干个具有离焦量Δf的离焦位置;③调整照明系统,设置曝光装置的照明条件和工艺条件;④控制工作台(8)和掩模台(4)的运动,使涂有光刻胶的晶圆(7)在选定的一系列离焦位置曝光;⑤被曝光的晶圆(7)进行后烘或后烘后显影;⑥利用光学对准系统(6)的参考光栅分别对晶圆(7)上的镜像FOCAL标记的左右两个FOCAL图形进行对准,记录其对准位置坐标,并记为PL(xL,yL)和PR(xR,yR);第三步:数据处理:①水平对准偏移量的计算:根据镜像FOCAL标记的左右两个FOCAL图形在曝光视场中成像的名义位置P0L(x0L,y0L)及P0R(x0R,y0R),并利用它们的对准位置信息按(A)式分别计算镜像FOCAL标记左右两部分的水平对准偏移量AOL与AOR,在笛卡儿坐标系中:X方向的水平对准偏移量记为ΔxL和ΔxR;Y方向的水平对准偏移量记为ΔyL和ΔyR: Δx L = x L - x 0 L Δy L = y L - y 0 L Δx R = x R - x 0 R Δy R = y R - y 0 R - - - ( A ) ②轴向像质引起的水平对准偏移量的计算:由水平对准偏移量计算轴向像质导致的水平对准偏移量AOv(Δxv或Δyv),用下式计算: AO v = 2 A O R v = - 2 A O L v = AO R - AO L ; - - - ( B ) ③轴向对准偏移量的计算:根据轴向像质导致的水平对准偏移量AOv与对应的离焦量数值Δf,利用最小二乘法进行四次曲线拟合,得到(C)式,AOv=a0+a1Δf+a2Δf2+a3Δf3+a4Δf4 (C)其中a0,a1,a2,a3,a4等为多项式各项的系数。利用(C)式计算对准偏移量AOv (Δxv或Δyv)取得极大值时,对应的离焦量Δf=ΔZx(或Δf=ΔZy)的数值ΔZx、ΔZy,即为轴向对准偏移量;④轴向像质参数计算:由轴向对准偏移量ΔZx、ΔZy拟合(D)式,从而得到焦面偏移、像面倾斜、场曲及像散等轴向像质参数: ( ΔZx + ΔZy ) / 2 = Zw + Rx · x 0 + Ry · y 0 + FC · ( x 0 2 + y 0 2 ) average ( ΔZx - ΔZy ) = AS - - - ( D ) 其中ΔZx、ΔZy、x0、y0分别表示曝光视场中每个FOCAL标记的轴向偏移量和名义坐标,AS代表像散,FC代表场曲、Zw代表最佳焦面、Rx、Ry分别代表绕X轴和绕Y轴的像面倾斜;⑤水平对准偏移量拟合:由水平对准偏移量AOL=ΔxL或ΔyL与AOR=ΔxR或ΔyR以及对应的离焦数值Δf,分别利用最小二乘法进行四次曲线拟合得到(E)式, Δx L = b 0 + b 1 Δf + b 2 Δ f 2 + b 3 Δf 3 + b 4 Δf 4 Δx R = c 0 + c 1 Δf + c 2 Δf 2 + c 3 Δf 3 + c 4 Δf 4 Δy L = d 0 + d 1 Δf + d 2 Δf 2 + d 3 Δf 3 + d 4 Δ f 4 Δy R = e 0 + e 1 Δf + e 2 Δf 2 + e 3 Δf 3 + e 4 Δf 4 - - - ( E ) 式中b0,b1,b2,b3,b4,c0,c1,c2,c3,c4,d0,d1,d2,d3,d4,e0,e1,e2,e3,e4等为多项式各项系数;⑥垂轴像质引起的水平对准偏移量的计算:在E式中,计算当Δf=ΔZx或Δf=ΔZy时的水平对准偏移量AOL=ΔxL或ΔyL,与AOR=ΔxR或ΔyR,并按照(F)式计算由垂轴像质引起的水平对准偏移量AOh,即Δxh与Δyh:, Δx h = Δx R + Δx L 2 | Δf = ΔZx Δ y h = Δy R + Δy L 2 | Δf = ΔZy ; - - - ( F ) ⑦垂轴像质计算:由垂轴像质引起的水平对准偏移量AOh拟合(G)式,从而得到像面平移、像面旋转、放大率变化量、畸变等垂轴像质参数: Δ x h = dx + x 0 Mag - y 0 φ + x 0 r 0 2 D 3 Δy h = dy + y 0 Mag + x 0 φ + y 0 r 0 2 D 3 - - - ( G ) 其中:dx、dy为标记在X向与Y向的平移,Mag为曝光系统的放大倍率变化量,φ为曝光视场绕光轴的旋转,D3为曝光系统的三级畸变。
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