[发明专利]掺镱硅酸钆激光晶体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200510025560.3 申请日: 2005-04-29
公开(公告)号: CN1694322A 公开(公告)日: 2005-11-09
发明(设计)人: 赵广军;徐军;介明印;苏良碧;徐晓东;张连翰;何晓明 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: H01S3/16 分类号: H01S3/16;C30B29/00;C30B15/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种掺镱硅酸钆激光晶体及其制备方法,该激光晶体的分子式为:Yb2xGd2(1-x) SiO5,其中x的取值范围为:0.001≤x≤0.4。其制备方法包括配料、混合粉料、烧结、籽晶、提拉法生长和退火处理等步骤。本发明掺镱硅酸钆激光晶体是一种宽调谐超快激光晶体,具有:宽发射1010-1100nm,离子反转数β=0.5时,半高宽约为70nm;较高的热导率;晶体生长容易,物化性能稳定等优点。
搜索关键词: 硅酸 激光 晶体 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种掺镱硅酸钆激光晶体,其特征在于该激光晶体的分子式为:Yb2xGd2(1-x)SiO5,其中x的取值范围为:0.001≤x≤0.4。
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