[发明专利]掺镱硅酸钆激光晶体及其制备方法有效
申请号: | 200510025560.3 | 申请日: | 2005-04-29 |
公开(公告)号: | CN1694322A | 公开(公告)日: | 2005-11-09 |
发明(设计)人: | 赵广军;徐军;介明印;苏良碧;徐晓东;张连翰;何晓明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | H01S3/16 | 分类号: | H01S3/16;C30B29/00;C30B15/00 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种掺镱硅酸钆激光晶体及其制备方法,该激光晶体的分子式为:Yb2xGd2(1-x) SiO5,其中x的取值范围为:0.001≤x≤0.4。其制备方法包括配料、混合粉料、烧结、籽晶、提拉法生长和退火处理等步骤。本发明掺镱硅酸钆激光晶体是一种宽调谐超快激光晶体,具有:宽发射1010-1100nm,离子反转数β=0.5时,半高宽约为70nm;较高的热导率;晶体生长容易,物化性能稳定等优点。 | ||
搜索关键词: | 硅酸 激光 晶体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种掺镱硅酸钆激光晶体,其特征在于该激光晶体的分子式为:Yb2xGd2(1-x)SiO5,其中x的取值范围为:0.001≤x≤0.4。
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