[发明专利]抛光浆料有效
申请号: | 200510025866.9 | 申请日: | 2005-05-17 |
公开(公告)号: | CN1865386A | 公开(公告)日: | 2006-11-22 |
发明(设计)人: | 肖正龙;杨春晓 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14;H01L21/304 |
代理公司: | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203上海市龙东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学机械抛光浆料,其包括研磨颗粒、载体和添加剂,其中该添加剂带有亲水基团。本发明通过改变抛光浆料中添加剂的结构,从而改变钝化膜的性质,最终消除抛光衬底表面的缺陷或将缺陷水平降至最低程度。 | ||
搜索关键词: | 抛光 浆料 | ||
【主权项】:
1、一种抛光浆料,其包括研磨颗粒、载体和添加剂,其特征在于该添加剂带有亲水基团。
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