[发明专利]632.8纳米波长的高衍射效率石英透射光栅无效
| 申请号： | 200510026559.2 | 申请日： | 2005-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN1693930A | 公开（公告）日： | 2005-11-09 |
| 发明（设计）人： | 周常河;张妍妍 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种632.8纳米波长的高衍射效率石英透射光栅，其特征在于该光栅的线密度为1575～1630线/毫米，光栅的深度为1.1～1.3微米，光栅的占空比为1/2，本发明可以同时使TE、TM偏振方向的+1级布拉格透射衍射效率实现高于85％，实现了对偏振模式的自由选择。特别是当光栅密度为1575线/毫米，光栅深度为1.2微米时，TE和TM偏振模式的效率均大于93％；当光栅密度为1580线/毫米，光栅深度为1.1微米时，TE偏振模式下+1级布拉格透射衍射效率有最大值97.81％。本发明矩形刻蚀石英光栅由微电子光刻工艺、深刻蚀工艺加工而成，可以低成本地大批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 632.8 纳米 波长 衍射 效率 石英 透射 光栅 | ||
【主权项】：
1、一种632.8纳米波长的高衍射效率石英透射光栅，其特征在于该光栅高密度矩形深刻蚀光栅，其线密度为1575～1630线/毫米，光栅的深度为1.1～1.3微米，光栅的占空比为1/2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510026559.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
