[发明专利]单片硅基微型电容式麦克风及其制作方法无效

专利信息
申请号: 200510026626.0 申请日: 2005-06-09
公开(公告)号: CN1694576A 公开(公告)日: 2005-11-09
发明(设计)人: 沈绍群;夏钟福;王丽;李军;胡绘钧;胡宗保;冯艺;纪新明 申请(专利权)人: 复旦大学;深圳豪恩电声科技有限公司;同济大学
主分类号: H04R19/04 分类号: H04R19/04;H04R31/00
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属电声技术领域,具体为一种结构新型的单片硅基微型电容式麦克风。其中,振膜采用弹性系数高的单晶硅膜制作,背极板采用聚酰亚胺厚膜制成,振膜电极和背电极均采用浓硼埋层电极引出,仅在热压脚上制作厚度大于1μm的金属层。在背极板上有微型声学孔。此外,在形成振膜的单晶硅衬底正面集成一个JFET源极跟随器,以达到阻抗变换的目的。单晶硅膜的释放采用HF汽相腐蚀工艺,在振膜与背极板之间不会产生粘连现象,使芯片成品率大大提高。本发明提出的单片硅基微型电容式麦克风,制作工艺简单,成品率高,生产成本低,适宜于大规模生产。
搜索关键词: 单片 微型 电容 麦克风 及其 制作方法
【主权项】:
1、一种单片硅基微型电容式麦克风,其特征在于其芯片包括一个N-型或P-型硅基片(1)、在硅基片(1)的正面经扩散硼形成的高电导的硅单晶振膜(2)、一个背极板(6)和一个由背极板(6)支撑的背电极(5),其中,硅基片(1)背面具有方形开口(3),深度到达硅单晶振膜(2);在硅基片(1)背面有一层二氧化硅和氮化硅的复合膜(4)作为保护层;硅基片(1)正面淀积有1-5μm的SiO2作牺牲层,在牺牲层上淀积有低阻多晶硅作背电极(5);在背电极上面有耐高温的聚酰亚胺膜作背极板(6),厚度为6-10微米;背极板(6)上面开有孔径为Φ5-10微米、孔间距≤5-10微米的大量圆形声学孔(7);背极板(6)面对振膜(2)的表面设有大量圆形的防粘连的支撑点(8);在振膜(2)与背电极(5)之间有二氧化硅和氮化硅的复合膜(4)作为绝缘层;中间有圆形面积的气隙(9)。
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