[发明专利]以青葱为模板和反应器一步合成IIB族硫化物半导体纳米材料的方法无效

专利信息
申请号: 200510026934.3 申请日: 2005-06-20
公开(公告)号: CN1715190A 公开(公告)日: 2006-01-04
发明(设计)人: 吴庆生;贾润萍;丁亚平 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: C01G1/12 分类号: C01G1/12;C01G11/02;C01G13/00;C01G9/08
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司 代理人: 陈龙梅
地址: 20009*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 以青葱为模板和反应器一步生产IIB族硫化物半导体纳米材料的方法,涉及一种纳米材料的制备工艺。先将青葱用蒸馏水洗干净。配制浓度为0.05~0.20mol/L含汞、镉、锌等金属离子和含硫离子溶液分置于两个容器中。先将青葱根部朝下竖直放入盛有其中一种溶液的容器中,并使其根茎全部被浸没,仅露出叶片。与此同时,缓慢向叶片的孔洞中注入另一种溶液,保持叶片孔洞中溶液高度低于孔洞约2厘米,24小时后取出。最后将青葱上的产物转入无水乙醇中,得到IIB族硫化物半导体纳米材料。本发明成本低廉、工艺简单、无任何污染、产率达90%,产物具有良好光学性能。可广泛用于网状、球状、颗粒状等IIB族硫化物半导体纳米材料的合成与制备。
搜索关键词: 青葱 模板 反应器 一步 合成 iib 硫化物 半导体 纳米 材料 方法
【主权项】:
1.以青葱为模板和反应器一步生产IIB族硫化物半导体纳米材料的方法,其特征在于:第一步:取市售新鲜青葱,将其用蒸馏水洗涤干净;第二步:取浓度为0.05~0.20mol/L,离子摩尔数之比与产物化学式相对应的含汞、镉、锌金属离子溶液和含硫金属离子溶液,分别置于两个容器中;先将青葱根部朝下竖直放入盛有其中一种溶液的容器中,并使其根茎全部被溶液浸没,仅露出葱管状叶片,与此同时,缓慢向葱管状叶片的管腔中注入另一种溶液,保持葱管状叶片的管腔中溶液高度低于管腔顶端2~3厘米,浸养24小时后取出;第三步:取出的青葱,分别用蒸馏水和无水乙醇洗净后,将青葱上的产物转入无水乙醇中,得到IIB族硫化物半导体纳米材料。
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