[发明专利]一种多窗口宽带增透PS-SiO2薄膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200510027779.7 申请日: 2005-07-15
公开(公告)号: CN1740824A 公开(公告)日: 2006-03-01
发明(设计)人: 彭波;蒋蕾;郭睿倩 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G02B1/00 分类号: G02B1/00;G02B1/11
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属光学薄膜材料技术领域,具体为一种新型多窗口宽带增透PS-SiO2薄膜及其制备方法。该薄膜通过sol-gel法在形成SiO2溶胶后加入聚苯乙烯(PS),热处理旋涂成膜。与以往各类改性的SiO2增透膜相比该类增透膜实现了宽带增透,掺入不同分子量的PS后在351nm,527nm和1054nm均有高的透光率,最高值均超过了98%,是极佳的KDP晶体增透膜的候选替换材料,可在高能核聚变模拟实验的超强激光系统中获得应用。
搜索关键词: 一种 窗口 宽带 ps sio sub 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种多窗口宽带增透PS-SiO2薄膜,其特征在于由SiO2溶胶中掺入聚苯乙烯组成,聚苯乙烯占SiO2溶胶质量的0.025-0.075%。
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