[发明专利]低电压触发与保存区静电放电器件有效

专利信息
申请号: 200510029193.4 申请日: 2005-08-24
公开(公告)号: CN1921118A 公开(公告)日: 2007-02-28
发明(设计)人: 俞大立;刘志纲 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L23/60
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人: 王怡
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了ESD保护技术。一种ESD保护器件包括设置在半导体衬底中的第一阱区和第二阱区,并且隔离区位于中间。N+注入区被设置在第二阱区中,并且在第一节点处耦合在一起。NLDD区被设置在N+注入区之间,并且环形注入位于每个NLDD区之下。当第一节点的电压超过击穿电压时,电流放电路径由对应的NLDD区和环形注入所限定。在一个具体实施例中,所述击穿电压小于逻辑门氧化物的击穿电压。
搜索关键词: 电压 触发 保存 静电 放电 器件
【主权项】:
1.一种静电放电保护器件,所述器件包括:半导体衬底;所述半导体衬底中的第一阱区和第二阱区;设置在第一阱区和第二阱区之间的隔离区;设置在第二阱区中的多个N+注入区,所述多个N+注入区在第一节点处电耦合在一起;多个NLDD区,每个NLDD区在所述多个N+注入区的两个N+注入区之间延伸;位于对应NLDD区之下的多个环形注入;设置在对应NLDD区上方的多个金属硅化物块区;以及多个电流放电路径,当第一节点的电压超过预定的击穿电压时,每个电流放电路径由对应的NLDD区和环形注入限定,其中所述击穿电压小于约3.5伏。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510029193.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top