[发明专利]倾斜入射光散射式硅片表面缺陷检测仪无效
| 申请号： | 200510029678.3 | 申请日： | 2005-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN1740782A | 公开（公告）日： | 2006-03-01 |
| 发明（设计）人： | 程兆谷;高海军;覃兆宇;张志平;黄惠杰;钱红斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种倾斜入射光散射式硅片表面缺陷检测仪，其构成是：在所述的激光光源组件发出的光束前进的方向上，依次有双凹透镜和平凸透镜组成的扩束系统，双胶合聚焦透镜，光束经平面反射镜转折且聚焦倾斜入射在被测量硅片表面，硅片位于工作台上；两块凸面相对的平凸透镜构成的散射光收集镜头对散射光进行收集，光电探测器置于所述的收集镜头的焦点处，光电探测器的输出端接计算机，在硅片的反射光方向上设有一光学陷阱。本发明具有检测精度高、结构简单、体积小、信噪比高等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 倾斜 入射 散射 硅片 表面 缺陷 检测 | ||
【主权项】：
1.一种倾斜入射光散射式硅片表面缺陷检测仪，包括一激光光源组件(1)，特征在于其构成如下：在所述的激光光源组件(1)发出的光束前进的方向上，依次有双凹透镜(2)和平凸透镜(3)组成的扩束系统，双胶合聚焦透镜(4)，光束经平面反射镜(5)转折且聚焦倾斜入射在被测量硅片(6)表面，硅片(6)位于工作台(11)上；两块凸面相对的平凸透镜构成的散射光收集镜头(8)对散射光进行收集，光电探测器(9)置于所述的收集镜头(8)的焦点处，光电探测器(9)的输出端接计算机(10)，在硅片(6)的反射光方向上设有一光学陷阱(7)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510029678.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：盘片夹
- 下一篇：混流式水轮机的尾水管电磁抑涡装置
