[发明专利]太阳能电池制造中同时形成硅片绒面及PN结的方法有效

专利信息
申请号: 200510030005.X 申请日: 2005-09-23
公开(公告)号: CN1937259A 公开(公告)日: 2007-03-28
发明(设计)人: 衣冠君;苏晓平;江彤 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 上海新高专利商标代理有限公司 代理人: 楼仙英
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种在硅片表面同时形成绒面结构和PN结的方法。用低压化学汽相淀积(LPCVD)方法,在同一设备中同时在硅片表面上生成半球形硅晶粒薄层构成的粗糙绒面结构,和在低温下进行N-型杂质扩散,例如,磷扩散,P-型硅片中形成N-阱,形成PN结。
搜索关键词: 太阳能电池 制造 同时 形成 硅片 pn 方法
【主权项】:
1、太阳能电池制造中同时形成硅片绒面及PN结的方法,包括以下工艺步骤:步骤1,硅片表面清洁处理;步骤2,低温干燥;步骤3,清洁处理后硅片被输送到LPCVD炉管中处理,在硅片表面同时形成绒面结构和PN结。
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