[发明专利]一种铜蚀刻液及其循环使用方法无效
| 申请号： | 200510031482.8 | 申请日： | 2005-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN1854343A | 公开（公告）日： | 2006-11-01 |
| 发明（设计）人： | 李德良 | 申请（专利权）人： | 李德良 |
| 主分类号： | C23F1/10 | 分类号： | C23F1/10;C23F1/46 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 410004湖南省长沙市雨花*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种铜蚀刻液及其循环使用的方法，这种铜蚀刻液以使用有机胺和氧化剂为特征，铜蚀刻液的铜浓度通过采用选择性分离铜的方法使其控制在蚀刻铜过程所要求的范围内，使铜蚀刻液的循环使用成为可能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蚀刻 及其 循环 使用方法 | ||
【主权项】：
1.本发明涉及一种铜蚀刻液及其循环使用的方法，其特征在于：(7)铜蚀刻液使用有机胺作为基本(必要)组份，以及与之匹配的氧化剂；(8)采用选择性分离铜的办法使铜蚀刻液的铜浓度控制在蚀刻铜过程所要求的范围内(1-150克/升)，实现循环使用。
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