[发明专利]标准漏孔有效
申请号: | 200510032731.5 | 申请日: | 2005-01-06 |
公开(公告)号: | CN1800801A | 公开(公告)日: | 2006-07-12 |
发明(设计)人: | 唐洁;刘亮;柳鹏;胡昭复;杜秉初;郭彩林;陈丕瑾;范守善 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
主分类号: | G01M3/02 | 分类号: | G01M3/02;G01N35/00 |
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地址: | 100084*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种标准漏孔。本发明所提供的标准漏孔包括一被测气体不可渗透的薄膜及形成于该薄膜内预定数目的通孔;通孔具有预定尺寸孔径,该孔径范围为纳米级。本发明所提供的标准漏孔,由于通孔的形状标准,尺寸及数目都可预定,且孔径大小达纳米级;因此可用真空科学的经典理论计算直接得出其漏率值,其可自定标;且漏率范围较宽,可实现超微小漏率的检测;因此解决了现有技术中标准漏孔的漏率必须借助其它设备对其进行标定,漏率范围较窄等不足。 | ||
搜索关键词: | 标准 漏孔 | ||
【主权项】:
1.一种标准漏孔,其包括一被测气体不可渗透的薄膜及形成于该薄膜内预定数目的通孔;通孔具有预定尺寸孔径。
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