[发明专利]表贴元件剖面制样及其制作方法和观察方法无效

专利信息
申请号: 200510033194.6 申请日: 2005-02-04
公开(公告)号: CN1815163A 公开(公告)日: 2006-08-09
发明(设计)人: 邓永孝;王宏全;黄创君;杜海涛 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28;G01N1/00;G01N21/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518129广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种表贴元件剖面制样及其制作方法和观察方法。表贴元件剖面制样中,表贴元件埋置于一透明彩色基体内,表贴元件一侧的剖面与基体的一个表面平齐。观察时,在所述表贴元件剖面制样的正面,利用显微镜进行观察,在制样背面加背面入射光。利用本发明制作出的剖面制样结构的清晰度有很大提高,表贴元件内部各层材料之间的界面和端电极形貌更加清晰美观,对表贴电阻的失效分析(FA)和破坏性物理分析(DPA)十分有用。
搜索关键词: 元件 剖面 及其 制作方法 观察 方法
【主权项】:
1.一种表贴元件剖面制样,所述表贴元件埋置于一透明基体内,所述表贴元件的一侧剖面与所述基体的一个表面平齐,其特征在于,所述基体呈有色透明状。
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