[发明专利]表贴元件剖面制样及其制作方法和观察方法无效
申请号: | 200510033194.6 | 申请日: | 2005-02-04 |
公开(公告)号: | CN1815163A | 公开(公告)日: | 2006-08-09 |
发明(设计)人: | 邓永孝;王宏全;黄创君;杜海涛 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N1/00;G01N21/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518129广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种表贴元件剖面制样及其制作方法和观察方法。表贴元件剖面制样中,表贴元件埋置于一透明彩色基体内,表贴元件一侧的剖面与基体的一个表面平齐。观察时,在所述表贴元件剖面制样的正面,利用显微镜进行观察,在制样背面加背面入射光。利用本发明制作出的剖面制样结构的清晰度有很大提高,表贴元件内部各层材料之间的界面和端电极形貌更加清晰美观,对表贴电阻的失效分析(FA)和破坏性物理分析(DPA)十分有用。 | ||
搜索关键词: | 元件 剖面 及其 制作方法 观察 方法 | ||
【主权项】:
1.一种表贴元件剖面制样,所述表贴元件埋置于一透明基体内,所述表贴元件的一侧剖面与所述基体的一个表面平齐,其特征在于,所述基体呈有色透明状。
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