[发明专利]标准漏孔及其制作方法有效
| 申请号： | 200510033489.3 | 申请日： | 2005-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN1828251A | 公开（公告）日： | 2006-09-06 |
| 发明（设计）人： | 刘亮;葛帅平;胡昭复;杜秉初;郭彩林;陈丕瑾;范守善 | 申请（专利权）人： | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
| 主分类号： | G01M3/02 | 分类号： | G01M3/02;G01N35/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种标准漏孔及其制作方法。本发明所提供的标准漏孔，其包括一第一基底；及一形成在第一基底上的第二基底；至少一基底在与另一基底结合面上形成有预定数目及尺寸的沟槽结构，从而使之与另一基底结合后共同形成通孔，该通孔的孔壁是被测气体不可渗透的。该沟槽结构的槽边角度为其所在基底的一晶面角度，固定不变，且该通孔的孔径尺寸达纳米级。因此，该标准漏孔具有漏率大小可控性好、漏率范围宽，可实现更微小漏率测量等优点。本发明还提供上述标准漏孔的制作方法。 | ||
| 搜索关键词： | 标准 漏孔 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种标准漏孔，其包括一第一基底；及一形成在第一基底上的第二基底；其特征在于至少一基底在与另一基底结合面上形成有预定数目及尺寸的沟槽结构，从而使之与另一基底结合后共同形成通孔，该通孔的孔壁是被测气体不可渗透的。
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