[发明专利]场发射阴极、其制造方法及平板型光源有效
申请号: | 200510036029.6 | 申请日: | 2005-07-15 |
公开(公告)号: | CN1897204A | 公开(公告)日: | 2007-01-17 |
发明(设计)人: | 杜秉初;唐洁;刘亮;郭彩林;陈丕瑾;胡昭复;范守善 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01J1/304 | 分类号: | H01J1/304;H01J9/02;H01J63/02 |
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地址: | 518109*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种场发射阴极、一种采用该场发射阴极的平板型光源。该场发射阴极包括:一阴极导电层及一形成在所述阴极导电层上的电子发射层,所述电子发射层含有碳纳米管、低熔点玻璃及导电金属微粒。该平板型光源包括:所述场发射阴极;及一阳极,其包括一阳极导电层及一形成在所述阳极导电层上的荧光层,该荧光层和所述电子发射层相对。该平板型光源的使用寿命长及电子发射层的场发射特性强。本发明还提供一种场发射阴极的制造方法,该方法简单及成本低。 | ||
搜索关键词: | 发射 阴极 制造 方法 平板 光源 | ||
【主权项】:
1.一种场发射阴极,包括:一阴极导电层及一形成在所述阴极导电层上的电子发射层;其特征在于:所述电子发射层含有碳纳米管、低熔点玻璃及导电金属微粒。
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