[发明专利]纳米粉体合成装置及方法无效
| 申请号： | 200510037335.1 | 申请日： | 2005-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN1931424A | 公开（公告）日： | 2007-03-21 |
| 发明（设计）人： | 何纪壮;黄全德;萧博元 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | B01J19/26 | 分类号： | B01J19/26;B01J14/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种纳米粉体合成装置，其包括一反应腔，该反应腔包括一第一侧壁，与该第一侧壁相对的第二侧壁，该第二侧壁与该反应腔底部呈钝角、与该反应腔顶部呈锐角；一设于该第一侧壁上的第一雾化器；及一设于反应腔底部的第二雾化器。本发明通过设于反应腔底部的第二雾化器，可向反应腔内由底部往顶部喷入雾化的第二反应物，从而可增加第二反应物与经由第一雾化器喷入反应腔的第一反应物的反应时间，使得反应物之间产生高效率撞击反应，在微观上使液－液反应能快速均匀进行，以合成超微细粒径的纳米粉体。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 合成 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种纳米粉体合成装置，其包括：一反应腔，该反应腔包括一第一侧壁；一第一雾化器，该第一雾化器设于该第一侧壁上，且与反应腔相连通，用于雾化第一反应物并将雾化的第一反应物喷入反应腔内；及一第二雾化器，该第二雾化器设于反应腔底部，且与反应腔相连通，用于雾化第二反应物并将雾化的第二反应物沿由反应腔底部向顶部的方向喷入反应腔内。
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