[发明专利]场发射阴极及平面光源在审

专利信息
申请号: 200510037510.7 申请日: 2005-09-22
公开(公告)号: CN1937136A 公开(公告)日: 2007-03-28
发明(设计)人: 郭彩林;潜力;唐洁;刘亮;杜秉初;胡昭复;陈丕瑾;范守善 申请(专利权)人: 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
主分类号: H01J1/304 分类号: H01J1/304;H01J63/00;H01J31/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种场发射阴极,该场发射阴极包括:一阴极导电层及一形成在所述阴极导电层上的电子发射体,所述电子发射体含有碳纳米管及吸气剂材料。本发明还涉及一种采用上述场发射阴极的平面光源,该平面光源包括:上述场发射阴极;及一阳极,其包括一阳极导电层及一形成在阳极导电层上的荧光体层,该荧光体层和电子发射体相对。该平面光源能有效维持平面光源内部一定的真空度,使平面光源的使用寿命长。
搜索关键词: 发射 阴极 平面 光源
【主权项】:
1.一种场发射阴极,包括:一阴极导电层及一形成在所述阴极导电层上的电子发射体;其特征在于:所述电子发射体含有碳纳米管及吸气剂材料。
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