[发明专利]大功率热梯度化学气相渗透工艺系统监控装置及监控方法无效
申请号: | 200510043045.8 | 申请日: | 2005-08-03 |
公开(公告)号: | CN1730722A | 公开(公告)日: | 2006-02-08 |
发明(设计)人: | 李贺军;孙国岭;齐乐华;李克智;张秀莲 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/26 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 | 代理人: | 黄毅新 |
地址: | 710072陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种大功率热梯度化学气相渗透工艺系统监控装置,温度传感器、压力传感器、元件损坏检测器、瓦斯信号检测器以及流量计的所采集的信号传输给监控计算机,监控计算机同时输出两路信号,一路到显示器,另一路通过D/O转换器与驱动放大电路分别控制脉冲封锁继电器和中间继电器,进而控制脉冲触发电路和真空开关继电器,使得整流电路停止工作或高压开关断开。还公开了上述装置的监控方法,监控计算机采集温度、压力等信号与设定的标准值进行比较,比较结果为正常时,循环采集比较,直至沉积工艺结束;比较结果不正常时,则关断10KV高压电路,或者使整流电路停止工作并报警。本发明采用数据库进行管理,实现了大功率TCVI工艺系统状态的自动检测。 | ||
搜索关键词: | 大功率 梯度 化学 渗透 工艺 系统 监控 装置 方法 | ||
【主权项】:
1、一种大功率热梯度化学气相渗透工艺系统监控装置,包括脉冲触发电路(19)、整流电路(22)、调压变压器(23)、高压开关(24),其特征在于:还包括信号调理器(10)、A/D转换器(11)、监控计算机(12)、显示器(13)、D/O转换器(14)、驱动放大电路(15)、脉冲封锁继电器(16)、中间继电器(17)、真空开关继电器(21);温度传感器(5)、压力传感器(6)、元件损坏检测器(7)、瓦斯信号检测器(8)以及流量计(9)的所采集的信号,经信号调理器(10)和A/D转换器(11)传输给监控计算机(12),监控计算机(12)同时输出两路信号,一路到显示器(13),另一路通过D/O转换器(14)与驱动放大电路(15)分别控制脉冲封锁继电器(16)和中间继电器(17),进而控制脉冲触发电路(19)和真空开关继电器(21),使得整流电路(22)停止工作或高压开关(24)断开。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的