[发明专利]一种利用激光退火提高掺稀土氧化铝薄膜光学特性的方法无效
| 申请号： | 200510046967.4 | 申请日： | 2005-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN1737675A | 公开（公告）日： | 2006-02-22 |
| 发明（设计）人： | 李成仁;宋琦;李建勇;周松强;李淑凤;宋昌烈 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | G02F1/39 | 分类号： | G02F1/39;H01S3/00 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 | 代理人： | 侯明远 |
| 地址： | 116024辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明属于光通信技术中有源光放大器件领域，具体涉及到一种利用激光退火对掺铒/铒镱共掺氧化铝薄膜进行晶化的方法。其特征是利用低功率CO2激光器对等离子体溅射方法制备掺铒/铒、镱共掺氧化铝薄膜进行照射，退火效果通过调节激光器工作功率和样品台位置与照射时间控制。本发明的效果和益处是利用CO2激光束照射在掺铒/铒、镱共掺氧化铝薄膜，在很短的时间内在薄膜表面产生高温，提高氧化铝材料的晶化程度，从而可以大幅度地提高氧化铝中铒的荧光谱强度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 激光 退火 提高 稀土 氧化铝 薄膜 光学 特性 方法 | ||
【主权项】：
1.一种利用激光退火提高掺稀土氧化铝薄膜光学特性的方法，其特征是利用激光束照射产生局部高温晶化氧化铝；其实施步骤是利用计算机控制的CO2激光器对掺铒/铒、镱共掺氧化铝薄膜进行照射，激光束在氧化铝薄膜中产生高温，氧化铝薄膜晶化程度得到提高。
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