[发明专利]一种无取向硅钢片的制造方法无效

专利信息
申请号: 200510047264.3 申请日: 2005-09-23
公开(公告)号: CN1743469A 公开(公告)日: 2006-03-08
发明(设计)人: 沙玉辉;赵骧;左良;裴伟 申请(专利权)人: 东北大学
主分类号: C21D1/26 分类号: C21D1/26;C21D10/00;C21D9/46
代理公司: 沈阳东大专利代理有限公司 代理人: 梁焱
地址: 110004辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明提出了一种无取向硅钢片的制造方法,其特征在于成品退火工序中加热和(或)冷却阶段的350~800℃区间内施加稳恒磁场,以得到再结晶织构优化的高性能硅钢片,磁场强度为0.1~12特斯拉(T)。本发明方法制造的无取向硅钢其成分按重量百分数计算为:Si2.0~3.5;Al0.1~2.0;C≤0.01;Mn 0.2~0.35;P≤0.02;S≤0.003;N2≤0.0025;O2≤0.003;余量为Fe和不可避免的杂质。用本发明方法所制造的冷轧无取向硅钢片,有利织构{100}显著增加,而不利织构{111}显著减少。
搜索关键词: 一种 取向 硅钢片 制造 方法
【主权项】:
1、一种无取向硅钢片的制造方法,包括冶炼、连铸、热轧、冷轧、退火、涂绝缘层等工序,其特征在于成品退火工序中温度为350~800℃区间时沿板材轧向施加稳恒磁场,使其再结晶晶粒织构得到有效优化。
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