[发明专利]动态缺陷校正方法和装置、以及具有其的电子设备无效
| 申请号： | 200510048865.6 | 申请日： | 2005-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN1992792A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 李明修;武藤雅季 | 申请（专利权）人： | 台湾新力国际股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/217 | 分类号： | H04N5/217;H04N5/243;H04N5/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴立明;王忠忠 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种一维缺陷校正方法及装置，依据像素的一维阵列，判断本区最大信号强度、本区最小信号强度以及邻近区域的平均值，判断像素是否为缺陷像素。假使像素是要被校正的，则判断如何将值校正，而非如同已知的中值滤波器般，仅对邻近区平均。 | ||
| 搜索关键词： | 动态 缺陷 校正 方法 装置 以及 具有 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种动态缺陷校正方法，用于校正像素的缺陷，包括下述步骤：输入步骤，输入待处理的像素的信号强度及该待处理像素之前及之后的多个像素的信号强度；比较步骤，将该之前及之后的多个像素的信号强度互相比较，以找出最大信号强度值及最小信号强度值；平均步骤，将该待处理的像素的之前最近及之后最近的像素的信号强度平均，以取得平均强度值；判断步骤，根据该待处理的像素的信号强度分别与该最小信号强度值及该最大信号强度值的比较结果，判断该待处理的像素是否为具有缺陷的像素；校正步骤，当该待处理的像素被判断为具有缺陷时，根据该判断步骤中取得的比较结果而决定一渐层变数k，以校正该待处理的像素的信号强度。
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