[发明专利]原位纳米改性紫外光固化涂料的方法无效

专利信息
申请号: 200510050745.X 申请日: 2005-07-15
公开(公告)号: CN1718642A 公开(公告)日: 2006-01-11
发明(设计)人: 杨慕杰;朱杨荣;黄德欢 申请(专利权)人: 黄德欢
主分类号: C09D4/00 分类号: C09D4/00
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 韩介梅
地址: 310013浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开的原位纳米改性紫外光固化涂料的方法,采用的是溶胶-凝胶法,包括以下步骤:将以体系总重量计49%~77%重量的紫外光固化涂料置于烧杯中,以体系总重量计1%~4%重量的稀盐酸溶液,浓度为0.3~0.6mmol/ml加入紫外光固化涂料中,同时加入以体系总重量计5%~27%重量的无水乙醇,充分搅拌使体系趋于均一,然后加入体系总重量计6%~22%重量的有机硅单体,其中含不饱和双键的有机硅单体占6~7%重量,在30℃条件下搅拌反应4小时。本发明制备的原位纳米改性紫外光固化涂料具有高硬度、耐刮伤性和良好的稳定性,适用于光盘表面的紫外光固化保护涂层。
搜索关键词: 原位 纳米 改性 紫外 光固化 涂料 方法
【主权项】:
1.原位纳米改性紫外光固化涂料的方法,其特征是包括以下步骤:将以体系总重量计49%~77%重量的紫外光固化涂料置于烧杯中,以体系总重量计1%~4%重量的稀盐酸溶液,浓度为0.3~0.6mmol/ml加入紫外光固化涂料中,同时加入以体系总重量计5%~27%重量的无水乙醇,充分搅拌使体系趋于均一,然后加入体系总重量计6%~22%重量的有机硅单体,其中含不饱和双键的有机硅单体占6~7%重量,在30℃条件下搅拌反应4小时。
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