[发明专利]集成电路装置有效
申请号: | 200510051070.0 | 申请日: | 2005-03-01 |
公开(公告)号: | CN1713391A | 公开(公告)日: | 2005-12-28 |
发明(设计)人: | 施彦豪;吕函庭 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;G11C16/02 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是有关于一种集成电路装置。具有电荷陷入层的集成电路装置存储有数种偏压排列方式用以改变存储装置的阈值电压,并通过改变阈值电压的高低来记录数字讯号-0或1。传统的存储装置中,在经过多次循环降低及升高阈值电压后,会造成电荷陷入层中的电荷分布不均匀。这样的电荷不均匀效应会干扰了可达到最低的阈值电压。藉由应用电荷平衡偏压排列方式,可使电荷的分布达到平衡而重新恢复操作的最低阈值电压范围。而应用具有高功函数栅极的存储装置可降低电荷平衡偏压操作方式下的最低阈值电压。 | ||
搜索关键词: | 集成电路 装置 | ||
【主权项】:
1、一种集成电路装置,其特征在于其包括:一基底;多数个存储装置,该些存储装置设置于该基底上,每一该些存储装置具有一阈值电压,且包括一栅极与多数个源极/漏极区,其中该些源极/漏极区设置于该基底中,每一该些存储装置更包括一顶介电层、一电荷陷入层与一底介电层介于该栅极与通道之间,其中该栅极包含一材料层,且该材料层具有一高于n型多晶硅的功函数;以及一电流控制器,且该电流控制器耦接该些存储装置,且包括利用逻辑操作以供应一电荷平衡偏压排列,其中该顶介电层、该电荷陷入层与该底介电层具有一组合的有效氧化层厚度,以及该底介电层具有一有效底氧化层厚度,且该有效底氧化层厚度大于3纳米,以及该电荷平衡偏压排列包括一负电压,该负电压是从该存储装置的该栅极到该基底的该通道区域,该负电压的强度为每纳米0.7伏特或更高。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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