[发明专利]曝光装置及方法有效
| 申请号： | 200510051291.8 | 申请日： | 2005-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN1667513A | 公开（公告）日： | 2005-09-14 |
| 发明（设计）人： | 卓英美 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 李伟;彭焱 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曝光装置及方法。该曝光装置包括：光学系统，用于提供光；掩模，具有置于光途径上的掩模体、置于掩模体的第一区域上的第一光透射图案、及置于与第一区域相邻的掩模体的第二区域上的第二光透射图案，并向第一方向移送；光吸收部件，介入于光学系统及掩模之间，具有分别形成于分别在第一及第二区域边界整列的第一侧面及第二侧面的漫反射防止部；以及基板，安装具有与经过第一及第二光透射图案的光进行反应的感光层的基片，与掩模一起移送到第一方向。从而在基片上形成良好的感光耐蚀膜图案。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，包括：光学系统，用于提供光；掩模，具有置于光途径上的掩模体、置于所述掩模体的第一区域上的第一光透射图案、以及置于与所述第一区域相邻的所述掩模体的第二区域上的第二光透射图案，并向第一方向移送；光吸收部件，介入于所述光学系统及所述掩模之间，具有分别形成于分别在所述第一及第二区域边界整列的第一侧面及第二侧面的漫反射防止部；以及基板，安装具有与经过所述第一及第二光透射图案的光进行反应的感光层的基片，并与所述掩模一起移送到所述第一方向。
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