[发明专利]纵向双极型晶体管及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200510051916.0 申请日: 2005-02-18
公开(公告)号: CN1658391A 公开(公告)日: 2005-08-24
发明(设计)人: 佐佐木元 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L27/08 分类号: H01L27/08;H01L27/04;H01L21/8249
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 沈昭坤
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供具有增大的电流放大率的纵向双极型晶体管及其制造方法。半导体器件是分别形成CMOS部分的具有第一导电型的源/漏区18c作为双极型部分的发射区18a、具有第二导电型的第一阱区13作为基极区、具有所述第一导电型的第二阱区14或具有所述第一导电型的半导体基板31作为集电极区的纵向双极型晶体管,其特征在于,具有位于所述第一阱区13上的为了规定所述发射极区18a而设置的分离结构Is。
搜索关键词: 纵向 双极型 晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体器件,是分别形成CMOS部分的具有第一导电型的源/漏区作为双极型部分的发射极区、具有第二导电型的第一阱区作为基极区、具有所述第一导电型的第二阱区或具有所述第一导电型的半导体基板作为集电极区的纵向双极型晶体管,其特征在于,具有位于所述第一阱区上的为了规定所述发射极区而设置的。
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