[发明专利]微结构的制造系统有效

专利信息
申请号: 200510052815.5 申请日: 2005-02-28
公开(公告)号: CN1680188A 公开(公告)日: 2005-10-12
发明(设计)人: 津野武志;后藤崇之;田原谕;木之内雅人;浅野伸;长谷川修;山田高幸;高桥睦也 申请(专利权)人: 三菱重工业株式会社
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 谢丽娜;顾红霞
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种微结构制造系统,包括具有预定定位精度和大行程长度的粗动工作台,设置在粗动工作台上并具有比粗动工作台更高定位精度和小行程长度的微动工作台等,它们结合在一起构成设置在真空容器内的工作台装置;用于测量到设置在微动工作台上的镜子的距离的激光长度测量机,用于利用激光长度测量机的测量结果驱动微动工作台的工作台控制装置等,它们结合在一起构成工作台控制单元;以及用于保持与由工作台装置保持的被压接元件相对设置的压接目标元件并且压接和分离这些元件的压杆(44),用于向压杆(44)施加压接力的压接驱动机构等,它们结合在一起构成压接机构单元。
搜索关键词: 微结构 制造 系统
【主权项】:
1.一种微结构制造系统,包括:压接和分离元件,设置在真空容器内,用来将具有多个带有任意二维图案和任意三维图案中的任一个的薄膜元件的被压接元件压接到设置为与被压接元件面对的压接目标元件,并且用来将薄膜元件分离于压接目标元件;以及定位元件,用来对被压接元件和压接目标元件进行定位,其中压接目标元件和薄膜元件的结合部分由定位元件相对设置,通过压接和分离元件使薄膜元件压接到压接目标元件,并且压接和分离元件从薄膜元件分离,从而在压接目标元件上层压薄膜元件,其中微结构制造系统包括:表面清洁元件,用于将原子和离子束中的任何一种辐射到被压接元件和压接目标元件的表面上,并且其中定位元件包括:第一工作台,具有能使第一工作台移动经过面对压接目标元件的被压接元件的整个表面的行程;第二工作台,具有等于或者大于第一工作台定位精度范围的行程;测量元件,能以高精度测量被压接元件的位置;以及定位控制元件,用来允许测量元件测量由第一工作台移动的被压接元件的位置,用来基于测量位置和目标位置之间的误差计算误差校正值,并且利用计算出的误差校正值将第二工作台移动到目标位置,从而校正第一工作台的定位误差。
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