[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 200510052979.8 | 申请日： | 2005-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN1661481A | 公开（公告）日： | 2005-08-31 |
| 发明（设计）人： | P·W·H·德贾格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;王勇 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种包括多个平行的平面反射表面衍射光学MEMS器件和一个传动器系统的光刻装置。所述传动器系统用来在垂直于所述平面反射器的方向上调节各平面反射器的位置，以改变与所述器件的光相互作用特性(例如相位、强度等)。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种使射束形成图案的系统，所述系统包括多个独立可控单元，各单元包括：一排基本平行的平面反射器；以及一个传动器系统，该系统在基本垂直于所述反射器的传动方向上移动所述反射器的位置，其中，所述传动器系统在所述传动方向上，将第一组的一个或多个反射器移到距所述系统的底部为第一多距离组中的一个距离的位置；其中，所述传动器系统在所述传动方向上将第二组的一个或多个反射器，独立于所述第一组，移到距所述底部为第二多距离组中的一个距离的位置。
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