[发明专利]电子元件及其制造方法有效
| 申请号： | 200510052992.3 | 申请日： | 2005-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN1665043A | 公开（公告）日： | 2005-09-07 |
| 发明（设计）人： | 野口隆男;井上宪司;齐藤久俊 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | H01L41/08 | 分类号： | H01L41/08;H01L41/22;H03H9/17;H03H3/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明不使用外延生长法等高成本的成膜方法便可制作具有高结晶度的功能膜的电子元件。该元件具备衬底、设置在衬底上的下部导电膜、设置在下部导电膜上的功能膜以及设置在下部导电膜与功能膜之间的结晶性阻挡膜。根据本发明，由于下部导电膜的结晶度和材料的选择不会影响功能膜结晶度，因而能够将铝(Al)等廉价的金属用作下部导电膜的材料，并且采用低成本的方法也可以使之形成。因此，本发明不采用外延生长法等高成本的成膜方法便能够提高功能膜13的结晶度。作为结晶性阻挡膜，可以使用具有无定型结构的材料。 | ||
| 搜索关键词： | 电子元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电子元件，其特征在于：该元件具有：衬底，设置在所述衬底上的下部导电膜，设置在所述下部导电膜上的功能膜，以及设置在所述下部导电膜和所述功能膜之间的结晶性阻挡膜。
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