[发明专利]微纳米转印装置有效

专利信息
申请号: 200510053417.5 申请日: 2005-03-07
公开(公告)号: CN1831644A 公开(公告)日: 2006-09-13
发明(设计)人: 何侑伦;陈来胜;王维汉;巫震华;陈钏锋;陈守仁 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;H01L21/027
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 代理人: 刘激扬
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种微纳米转印装置至少包括模具、基板以及传递能量模块,该基板是相对该模具而设置并至少具有一成形材料层,该传递能量模块包括能量传递件以及至少一个能量源,由该能量传递件接设该基板或该模具,使该能量源提供转印能量至该基板或该模具,至少令部分转印能量穿透该能量传递件至该基板或该模具,对该成形材料层进行转印成形;本发明的微纳米转印装置能在提供兼具不同转印制程功能的同时,达到简化结构的效果,并可一次完成大面积、均匀转印,提高了产量和成形品质,还可降低装置成本,缩短成形周期,提供设计灵活性。
搜索关键词: 纳米 装置
【主权项】:
1.一种微纳米转印装置,其特征在于,该装置至少包括:模具;基板,相对该模具而设置,至少具有一成形材料层;以及传递能量模块,包括能量传递件以及至少一个能量源,由该能量传递件接设该基板或该模具,并使该能量源提供转印能量到该基板或该模具,至少令部分转印能量穿透该能量传递件到该基板或该模具,进行转印成形。
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