[发明专利]光刻装置和器件制造方法无效
| 申请号： | 200510054227.5 | 申请日： | 2005-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN1683999A | 公开（公告）日： | 2005-10-19 |
| 发明（设计）人： | P·C·杜恩埃维德;P·迪克森;A·Y·科勒斯恩臣科;H·范桑坦 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司;ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开一种湿浸光刻装置，其中电压发生器将势差施加到与浸液接触的一物件上，使得由于浸液中气泡表面的动电电势的原因，浸液中的气泡和/或粒子被物件吸引或被物件排斥。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻装置，包括：用于提供辐射投射光束的照射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于给投射光束的横截面赋予图案；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；用于利用浸液至少部分填充在所述投射系统的最后元件和所述基底间空间的液体供给系统；和用于横穿液体供给系统提供的浸液施加第一电势以在浸液中移动气泡和/或粒子的电源。
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