[发明专利]带有抗反射膜的光学元件的生产方法有效
| 申请号： | 200510054344.1 | 申请日： | 2001-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN1651938A | 公开（公告）日： | 2005-08-10 |
| 发明（设计）人： | 三石刚史;嘉村齐;新出谦一;武井博基;小林明德;高桥幸弘;渡边裕子 | 申请（专利权）人： | 保谷株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本申请的目的是提供一种抗反射膜的高折射层的生产方法，该方法包括烧结包含含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合物的组合物，汽化该烧结过的组合物，并将产生的蒸汽沉积在合成树脂基材上，其中蒸汽源混合物中二氧化钛的量以TiO2计为30－75％重量，其中蒸汽源混合物中五氧化二铌的量以Nb2O5计为25－70％重量。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 反射 光学 元件 生产 方法 | ||
【主权项】：
1.抗反射膜的高折射层的生产方法，该方法包括烧结包含含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合物的组合物，汽化该烧结过的组合物，并将产生的蒸汽沉积在合成树脂基材上，其中蒸汽源混合物中二氧化钛的量以TiO2计为30-75％重量，其中蒸汽源混合物中五氧化二铌的量以Nb2O5计为25-70％重量。
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