[发明专利]布局数据检验方法、掩模图案检验方法及电路动作检验方法

摘要

一种检出方法，从掩模图案抽出制造上成问题的缺陷。掩模图案是使在光刻蚀工序中使用的光掩膜的掩模图案变形，以便得到近似于所需的设计图案的复制图象。该检出方法包括：决定光刻蚀工序中的曝光量的工序；根据曝光量，使用计算机，进行光刻蚀工序的模拟的工序；确认是否能够获得所需要的设计图案的工序；特定故障部位后输出的工序。

主权项

1、一种掩模图案检验方法，是从掩模图案中抽出制造上成问题的缺陷的检验方法，其特征在于：所述掩模图案，是使光刻蚀工序中使用的光掩膜变形，以便能够得到近似于所需要的设计图案的复制图象的掩模图案；所述检验方法，包括：决定所述光刻蚀工序中的参数的工序a；根据所述参数，使用计算机，进行所述光刻蚀工序的模拟的工序b；确认是否能够获得所需要的设计图案的工序c；以及特定故障部位后输出的工序d。