[发明专利]具有弯曲表面的涂层基底以及例如这种涂层基底的生产方法有效
| 申请号： | 200510054431.7 | 申请日： | 2005-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN1721569A | 公开（公告）日： | 2006-01-18 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·库伯尔;迪特·维坦伯格;克里斯多夫·穆勒;鲁茨·佐格 | 申请（专利权）人： | 肖特股份公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/34;C23C16/04;C23C16/513;B05D1/32;B05D5/06;G03F7/20;G03F7/26;G02B1/10;B05D1/02;B05C5/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 联邦德*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在弯曲表面上具有形成图案的光学涂层的基底的生产方法，其中：覆盖弯曲表面子区域的掩模涂敷到弯曲表面，光学涂层使用真空沉积方法来涂敷，以及掩模被去除。可以特别地由该方法产生的涂层基底具有提供有至少一个形成图案的光学涂层的弯曲表面，使得光学涂层提供在该表面的至少一个子区域上而在至少一个相邻子区域上缺少。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 弯曲 表面 涂层 基底 以及 例如 这种 生产 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基底的产生方法，该基底在弯曲表面上具有形成图案的光学涂层，其中：- 覆盖该弯曲表面的子区域的掩模被涂敷到弯曲表面，- 光学涂层使用真空沉积方法来涂敷，以及- 掩模被去除。
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