[发明专利]非旋涂方式用正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图形形成方法无效
| 申请号： | 200510054468.X | 申请日： | 2005-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN1667511A | 公开（公告）日： | 2005-09-14 |
| 发明（设计）人： | 青木知三郎;森尾公隆;加藤哲也 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 刘建 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种非常适用于非旋涂方式的正型光致抗蚀剂组合物。这种组合物是在具有通过使喷嘴与基板相对移动在基板的整个涂布面上涂布正型光致抗蚀剂组合物工序的非旋涂方式中使用的正型光致抗蚀剂组合物，含有(A)碱可溶性树脂，(B)萘醌二叠氮酯化物，及(D)有机溶剂，该组合物的粘度在1～10cp。 | ||
| 搜索关键词： | 非旋涂 方式 用正型光致抗蚀剂 组合 图形 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种非旋涂方式用正型光致抗蚀剂组合物，是在具有通过使喷嘴与基板相对移动而在基板的整个涂布面上涂布正型光致抗蚀剂组合物的工序的非旋涂方式中使用的正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有(A)碱可溶性树脂、(B)萘醌二叠氮酯化物以及(D)有机溶剂，该组合物的粘度在1～10cp。
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